1. Funcionamiento estable a alta potencia
Diseñado para mantener unas condiciones de funcionamiento estables a medida que aumenta la potencia del láser.
El eVa 11-UHP es un nuevo cabezal de corte desarrollado para potencias láser de entre 20 y 60 kW. Su sistema óptico rediseñado, su arquitectura mecánica y su gestión térmica se adaptan a la mayor densidad energética y a las cargas térmicas extremas del corte de potencia ultraalta, lo que permite aprovechar esta potencia en un proceso estable, predecible y repetible.
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Al aumentar la potencia del láser, aumenta la cantidad de energía que atraviesa el cabezal de corte. Esto supone mayores exigencias para la óptica, la estructura mecánica y la gestión térmica.
El eVa 11-UHP se ha desarrollado teniendo en cuenta estas condiciones. Su sistema óptico rediseñado gestiona la distribución de la energía entre los componentes ópticos, mientras que un nuevo concepto de refrigeración controla el calor a lo largo de toda la trayectoria del haz.
En conjunto, estos sistemas ayudan a mantener unas condiciones ópticas estables a medida que aumenta la potencia del láser.
Un nuevo diseño mecánico se adapta al sistema óptico UHP y a la geometría específica de sus lentes.
El diseño óptico distribuye la energía de forma diferente a lo largo del sistema para reducir la carga sobre cada uno de los componentes ópticos.
La refrigeración específica a lo largo de todo el recorrido del haz ayuda a controlar el entorno térmico en el interior del cabezal
Un sistema de refrigeración independiente contribuye a mantener la estabilidad del sensor en condiciones de alta potencia.
Un diseño de soplado mejorado, con una boquilla intercambiable, está optimizado para el corte de materiales gruesos.
El eVa 11-UHP utiliza una arquitectura óptica rediseñada, desarrollada específicamente para un funcionamiento a potencia ultraalta.
Una nueva geometría óptica y una mayor apertura numérica mejoran el enfoque del haz, el control del punto focal y la distribución de la energía. Una menor densidad de energía en los componentes ópticos individuales contribuye a reducir la carga térmica y favorece la estabilidad del haz a alta potencia.
En el rango de 20 a 60 kW, el control del calor pasa a formar parte del control del proceso de corte. El eVa 11-UHP incorpora un sistema de refrigeración específico a lo largo de la trayectoria del haz. Cada módulo cuenta con su propio sistema de refrigeración, mientras que el diseño mecánico y los materiales utilizados favorecen una disipación eficiente del calor.
Esto ayuda a mantener un entorno térmico más estable en el interior del cabezal de corte durante el funcionamiento a alta potencia.
Las variaciones térmicas pueden afectar a la posición del haz y, por lo tanto, al proceso de corte. El diseño óptico del eVa 11-UHP está pensado para reducir el desplazamiento del foco provocado por el calor. Un sensor de distancia con refrigeración independiente contribuye además a mantener unas condiciones de medición estables durante el funcionamiento a potencia ultraalta.
El resultado es un proceso de corte más predecible y repetible, especialmente durante el funcionamiento prolongado a alta potencia.
Las potencias ultraaltas solo resultan útiles si el sistema es capaz de controlarlas y aprovecharlas.
El eVa 11-UHP se ha desarrollado basándose en este principio.
En lugar de limitarse a adaptar un cabezal de corte ya existente a una potencia láser mayor, Eagle rediseñó el sistema óptico, la arquitectura mecánica y la gestión térmica en función de los requisitos que exige el funcionamiento a potencia ultraalta.
El objetivo no es simplemente gestionar más energía, sino mantener las condiciones necesarias para convertir esa energía en un rendimiento de corte estable y predecible.
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RESERVA UNA VISITA A LA SALA DE EXPOSICIÓNDiseñado para mantener unas condiciones de funcionamiento estables a medida que aumenta la potencia del láser.
La reducción del desplazamiento del foco provocado por el calor favorece la repetibilidad del corte durante un funcionamiento prolongado.
La refrigeración específica y la distribución optimizada de la energía contribuyen a controlar las condiciones térmicas en el interior del cabezal de corte.
Diseñado para aplicaciones que requieren potencias láser de entre 20 y 60 kW.
El eVa 11-UHP es un cabezal de corte desarrollado específicamente para el corte por láser de potencia ultraalta, de 20 a 60 kW.
Combina un sistema óptico rediseñado, una nueva arquitectura mecánica y una gestión térmica avanzada, desarrollada en función de los requisitos que exige el funcionamiento a potencia ultraalta.
Una mayor potencia del láser genera una mayor densidad de energía y cargas térmicas en el sistema óptico. El eVa 11-UHP gestiona la distribución de la energía a lo largo del sistema óptico para reducir la carga sobre cada uno de los componentes y favorecer la estabilidad del haz.
Cada módulo situado a lo largo de la trayectoria del haz cuenta con su propio sistema de refrigeración. La arquitectura está diseñada para mejorar la extracción de calor y mantener unas condiciones térmicas más estables.
Su diseño óptico está pensado para reducir el desplazamiento del foco provocado por el calor. El sensor de distancia cuenta además con un sistema de refrigeración específico que ayuda a mantener unas condiciones de medición estables.
El eVa 11-UHP está diseñado para potencias láser de entre 20 y 60 kW.
Con una potencia de 60 kW, el cabezal de corte debe soportar cargas ópticas y térmicas mucho mayores que con las potencias de láser convencionales. El eVa 11-UHP está diseñado para controlar estas condiciones mediante una óptica rediseñada, una menor densidad de energía en las zonas críticas y una refrigeración a lo largo de toda la trayectoria del haz.
El sistema óptico, la arquitectura mecánica y la gestión térmica se han desarrollado específicamente para un funcionamiento a potencias ultraaltas. La refrigeración a lo largo de toda la trayectoria del haz y un mejor control de la distribución de la energía contribuyen a mantener unas condiciones estables del haz, la posición focal y el funcionamiento del sensor a potencias de hasta 60 kW.
Sí. Una mayor potencia del láser aumenta la carga térmica en el interior del sistema óptico. El eVa 11-UHP reduce la densidad de energía en las zonas críticas y utiliza un sistema de refrigeración específico para limitar la tensión térmica y mantener la estabilidad óptica.
El sistema óptico rediseñado reduce la densidad de energía, al tiempo que se proporciona refrigeración a lo largo de toda la trayectoria del haz. El aumento de la distancia entre la salida de la fibra y la lente colimadora reduce la densidad de energía en esa zona a la mitad, lo que contribuye a reducir la carga térmica sobre el sistema óptico.
No necesariamente. La eVa 11-UHP está diseñada para reducir los efectos que normalmente aumentan las necesidades de mantenimiento a potencias ultraaltas. Una menor densidad energética, un sistema de refrigeración específico y una mayor separación entre la zona de corte y el cristal protector contribuyen a reducir la contaminación, la carga térmica y la frecuencia con la que hay que sustituir el cristal protector.
Sí. El eVa 11-UHP está diseñado para fuentes láser de entre 20 y 60 kW, por lo que la misma arquitectura del cabezal es compatible con un rango más amplio de potencia ultraalta, en lugar de estar dedicada exclusivamente a los 60 kW.
A potencias ultraaltas, el calor puede afectar al sistema óptico, a la posición focal y al funcionamiento del sensor. Un mejor control térmico reduce estos efectos y permite un corte más predecible y repetible durante el funcionamiento exigente a alta potencia.
